尊龙凯时「中国」人生就是博|官方网站

2024海外半导体设备巨头巡礼系列:详解光刻巨人ASML成功之奥妙-z6尊龙凯时|官方网站
您现在所在位置: 主页 > 新闻中心 > 行业动态

公司资讯

Company information

行业动态

Industry dynamics

2024海外半导体设备巨头巡礼系列:详解光刻巨人ASML成功之奥妙

发布日期:2024-10-27 13:09 浏览次数:

  今天分享的是:2024海外半导体设备巨头巡礼系列:详解光刻巨人ASML成功之奥妙

  《2024海外半导体设备巨头巡礼系列:详解光刻巨人ASML成功之奥妙》由东吴证券发布,对ASML公司进行了深入剖析,主要内容如下:

  - 发展历程与现状:ASML于1984年成立,历经40年发展,通过收购和技术创新成为全球第一大IC光刻机厂商。2023年实现营收276亿欧元,净利润78亿欧元。公司股权较为分散,按地域看美国投资者占比较大。

  - 产品布局与业绩:主营业务包含设备系统和已安装设备管理,设备系统中的IC前道光刻机是主要收入来源,可分为I-line、DUV、EUV光刻机。过去业绩稳健增长,未来业绩指引乐观,目标2025 - 2030年营收持续增长。不同类型光刻机销售均价逐年提高,2024H1光刻机ASP约为0.5亿欧元/台。

  - 研发投入与产能规划:持续巨额的研发投入和快速扩张的资本开支,2023年研发费用达40亿欧元,资本开支达22亿欧元。目标2025 - 2026年DUV和EUV光刻机年产能分别提升到2022年的2.5倍和3倍。

  - 光刻工艺:光刻机承担光刻工艺中的曝光步骤,投影式光刻是当前IC光刻机主流技术,其中步进扫描式为投影式中的主流技术。光刻机的三大核心指标包括分辨率、套刻精度和产能。

  - 技术迭代逻辑:光刻技术迭代围绕提高分辨率展开,依据瑞利准则,通过降低光源波长、提升物镜数值孔径、改进光刻工艺因子等方式实现。

  - 产业链构成:覆盖众多上游组件和系统,以及中游配套设备和材料。上游包括光学组件、光源系统等,中游主要是掩模光刻机制造商,下游应用于IC制造等领域。

  - 核心部件分析:光源系统、光学系统、双工件台是光刻机三大核心部件。光源供应几乎由美国Cymer和日本Gigaphoton垄断;光学系统中投影物镜技术难度极高,EUV投影物镜由德国蔡司垄断;双工件台由ASML于2001年最先推出。

  - 市场规模与竞争态势:2023年全球IC光刻机市场规模接近260亿美元,呈现“一超双强”格局,ASML在DUV和EUV光刻机市场均占据主导地位。预计未来晶圆需求增长将带动光刻机需求提升。

  - 客户结构与订单情况:台积电、三星电子、英特尔是ASML的前三大客户。2024H1来自中国大陆的营收和设备收入占比大幅提升,截至24Q2末,仍有约80亿欧元的在手订单来自中国大陆。

  - 技术领先:早期凭借PAS 5500、双工件台、浸没式、EUV四项技术实现赶超,如今各项指标引领行业。

  - 生态完善:掌控光刻机三大核心部件供应,与全球头部晶圆厂深度合作,构筑起完善的生态网络。

  - 资金雄厚:早期获头部客户股权投资,中后期在自身盈利及政府支持下,持续投入研发、收购供应商。

  - 发展现状与挑战:目前国产光刻机实现自主可控的三大核心要素已具备,但技术端仍然薄弱,整体技术水平落后ASML约20 - 30年。

  - 未来展望:上海微电子是国内技术领先的光刻机研制单位,其IC前道光刻机可量产90nm制程,浸没式光刻机正加速研发。随着大基金三期募资落地等,光刻机产业链有望获得资金支持,持续突破技术瓶颈。

0516-86369655