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北方华创取得半导体工艺腔室及设备专利提升加热效率和效果

发布日期:2025-01-19 01:47 浏览次数:

  金融界2025年1月18日消息,国家知识产权局信息显示,北京北方华创微电子装备有限公司取得一项名为“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”的专利,授权公告号CN 222349118 U,申请日期为2024年1月。

  专利摘要显示,本申请公开了一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备,属于半导体技术领域。半导体工艺腔室包括腔室本体、旋转板和多个加热元件,旋转板可转动地设置于腔室本体内,腔室本体内设有用于承载晶片的基座,基座与旋转板相对,多个加热元件间隔设置于旋转板,以加热晶片。半导体工艺设备包括上述的半导体工艺腔室,半导体工艺腔室为半导体去气腔室。如此,依靠旋转板的转动过程,加热元件能够加热晶片的不同区域,提升晶片表面温度的均匀性,从而提升加热效率和加热效果。

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  天眼查资料显示,北京北方华创微电子装备有限公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币,实缴资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析,北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目992次,知识产权方面有商标信息31条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可339个。

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