基本介绍 光刻机，也称为掩模对准曝光机或光刻系统，是制造芯片的核心设备。它采用类似照片冲印的技术，通过光线曝光将掩膜版上的精细图形转移到硅片上。光刻机的精度直接影响到芯片的性能和制程技术。 刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器。它通过物理或化学方法去除硅片

　　面的特定材料，以形成电路图案。刻蚀过程对于芯片制造中的图案转移至关重要

　　光刻机，也称为掩模对准曝光机或光刻系统，是制造芯片的核心设备。它采用类似照片冲

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